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            蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
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            加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

            加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

            • 所屬分類:加工裝飾品
            • 發布日期:2019-03-23
            • 產品概述
            • 性能特點
            • 技術參數

            真空鍍膜技術通常應用在哪些領域?

            1、在裝飾品方面

            隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。

            2、在刀具、模具等金屬切削加工工具方面

            在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。

            (1)金黃色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是第一代應用廣泛的硬質層材料。

            (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。

            (3)鈷銅色的,是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

            3、在建筑玻璃和汽車玻璃上

            建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射,普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外,但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經濟的發展,普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求,而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區降低室內溫度的要求;而低輻射膜則能滿足高緯度地區充分接受太陽輻射能量和最大限度阻止室內熱量外流的要求。在玻璃上,鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃,這種工藝在汽車玻璃上有很好的應用。

            4、在平板顯示器中

            所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求??梢院敛豢鋸埖恼f,沒有薄膜技術,就沒有平板顯示器件。

            5、在太陽能利用方面

            當需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。

            6、在防偽技術中

            防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

            7、在飛機防護涂層方面

            飛機的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產生“鎘脆”,甚至引起“空難”。1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

            8、在光學儀器中

            人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術,鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

            9、在信息存儲領域中

            薄膜材料作為信息記錄于存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。

            10、在傳感器方面

            在傳感器中,多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表面、界面的性質,需要盡量增大其面積,且能工業化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。

            11、在集成電路制造中

            晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術??梢?,氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。


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